探针式台阶仪_台阶仪

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探针式台阶仪

系列：X-200 特征：标准型 < 应用 > 半导体/微电子：晶圆台阶、刻蚀深度、薄膜厚度/均匀性、光刻胶厚度、应力与翘曲。 MEMS/微机电：微结构高度、沟槽深度、悬臂梁轮廓、表面粗糙度。光学/精密光学：透镜曲率、光学薄膜厚度、表面粗糙度、平面度。显示/LED：像素台阶、ITO/有机层厚度、发光层均匀性。太阳能/光伏：电极线高度/宽度、减反膜厚度、表面形貌。材料科学：涂层/镀层厚度、纳米材料形貌、生物材料表面特征。汽车/医疗：精密零件粗糙度、植入体表面、微流体通道表征。

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■ 概述

纳米至微米级表面形貌与薄膜参数的高精度接触式测量核心设备，核心用途是量化台阶高度、薄膜厚度、表面粗糙度、翘曲与应力，广泛用于半导体、MEMS、光学、材料与精密制造的研发与质控。

■ 特点
· 高精度、高效率的定位测量。
· 三维空间角度任意调节。
· 全新探针式表面轮廓测量技术。
· 配备超高真线度导轨，杜绝运动中的细微抖动，提高扫描精度。
· 台阶高度重复性1mn。

■ 规格

型号			X-200
方式			探针式表面轮廓测量技术
样品观测			光学导航摄像头：500万像素高分辨率彩色摄像机，FoV，1700*1400um
探针传感器			超低惯量，LVDC传感器
测量力			0.5-50mg可调
探针选型			探针曲率半径2um，夹角60°
平台移动范围 X/Y			电动X/Y(100mm*100mm)(可手动校平)
样品载物台			电动，360°连续旋转
单次扫搭车长度			55mm
最大样品厚度			50mm
载物台最大晶圆尺寸			150mm(6寸), 200mm(8寸)
台阶高度重复性			<1nm(测量1um台阶高度，1 )
传感器量程			330um
垂直分辨率			分辨力<0.25 (量程为13um时)2um/s-10mm/s
扫描速度			2um/s-10mm/s